脈沖電鍍的電流分布,。理論方面的定性裸討在脈沖電鍍中電流分布的定量處理比直流電鍍更復(fù)雜,因而在理論方面我們?nèi)匀缰绷麟娐靡粯舆M(jìn)行定性探討。
在脈沖電鍍中初次電流分布應(yīng)該是不受脈沖電流影響的,因為初次電流分布不取決于電流密度,只與電鍍體系的幾何因素有關(guān)。
在本章第z節(jié)中已經(jīng)表明,在增加電流密度時,第二次電流分布的均勻性降低。電流密度被應(yīng)用于計算Wagner數(shù)時,對于脈沖電鍍而言它是瞬時脈沖電流密度,比直流中應(yīng)用的電流密度高得多:因而采用脈沖電流其第二次電流分布如所預(yù)料的一樣是降低均勻性。如果脈沖電流密度等于直流電流密度時,則脈沖和直流兩種情況中電流分布應(yīng)該是相同的。但是,此時的平均沉積速度確是直流電流高于脈沖電流。
時,其脈沖電流的電流分布可以接近于直流電流分布,況發(fā)生于脈寬窄或低脈沖電流密度時(四章已討論)。
匆果脈沖電流受到電容效應(yīng)的影響有時甚至可以優(yōu)于直流分布。