HMDS的化學(xué)名稱為六甲基二硅胺或氮烷, 外觀是無色透明液體，無懸浮物及機(jī)械雜質(zhì)。

　　HMDS真空干燥箱主要用途：

　　、、氟及各種衍生物等硅藻土、硅石、鈦等粉末的表面處理。半導(dǎo)體工業(yè)中光致刻蝕劑的粘結(jié)助劑。

　　HMDS真空干燥箱與硅片反應(yīng)機(jī)理：先加熱到100℃-200℃，去除硅片表面的水分，然后HMDS與表面的OH一反應(yīng)，在硅片表而生成硅醚，消除氫鍵作，從而使極性表面變成非極性表面。整個(gè)反應(yīng)持續(xù)到空間位阻(三甲基硅烷基較大)阻止其進(jìn)一步反應(yīng)。

HMDS真空干燥箱的工作流程：
　　先確定HMDS真空干燥箱工作溫度。典型的預(yù)處理程序?yàn)椋捍蜷_真空泵抽真空，待腔內(nèi)真牢度達(dá)到某一高真空度后，開始充人氮?dú)?，充到達(dá)到某低真空度后，再次進(jìn)行抽真空、充入氮?dú)獾倪^程，到達(dá)設(shè)定的充入氮?dú)獯螖?shù)后，開始保持一段時(shí)間，使硅片充分受熱，減少硅片表面的水分。然后HMDS真空干燥箱再次開始抽真空，充入HMDS氣體，在到達(dá)設(shè)定時(shí)間后，停止充入 HMDS藥液，進(jìn)入保持階段，使硅片充分與HMDS反應(yīng)。當(dāng)達(dá)到設(shè)定的保持時(shí)間后，再次開始抽真空。充入氮?dú)?，完成整個(gè)作業(yè)過程。