泉瑞QRCJ系列去離子水設(shè)備
為滿足用戶需要，去離子水設(shè)備達(dá)到相關(guān)行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)的水質(zhì)（0.5-18 MΩ.CM），泉瑞去離子水設(shè)備盡可能地減少各級(jí)的污染，延長(zhǎng)設(shè)備的使用壽命、降低操作人員的維護(hù)工作量。在工藝設(shè)計(jì)上，泉瑞QRCJ系列去離子水設(shè)備取市政自來(lái)水為源水，流經(jīng)多介質(zhì)過(guò)濾器，活性碳過(guò)濾器，鈉離子軟化器、精密過(guò)濾器等預(yù)處理系統(tǒng)、RO反滲透主機(jī)系統(tǒng)、離子交換混床（或EDI電除鹽系統(tǒng)）系統(tǒng)等處理，泉瑞QRCJ系列去離子水設(shè)備可以使產(chǎn)水電阻值達(dá)到0.5-18 MΩ.CM。
             
      預(yù)處理系統(tǒng)－反滲透系統(tǒng)－中間水箱－粗混合床－精混合床－純水箱－純水泵－紫外線處理器－拋光混床－精密過(guò)濾器－用水對(duì)象 （≥18MΩ.CM）(傳統(tǒng)工藝)

預(yù)處理－反滲透－中間水箱－水泵－EDI裝置－純化水箱－純水泵－紫外線處理器－拋光混床－0.2或0.5μm精密過(guò)濾器－用水對(duì)象（≥18MΩ.CM）(新工藝)
預(yù)處理－初級(jí)反滲透－加藥機(jī)（PH調(diào)節(jié)）－中間水箱－**級(jí)反滲透（正電荷反滲膜）－純水箱－純水泵－EDI裝置－紫外線處理器－0.2或0.5μm精密過(guò)濾器－用水對(duì)象（≥17MΩ.CM）(新工藝)
預(yù)處理－反滲透－中間水箱－水泵－EDI裝置－純水箱－純水泵－紫外線處理器－0.2或0.5μm精密過(guò)濾器－用水對(duì)象（≥15MΩ.CM）(新工藝)
預(yù)處理系統(tǒng)－反滲透系統(tǒng)－中間水箱－純水泵－粗混合床－精混合床－紫外線處理器－精密過(guò)濾器－用水對(duì)象 （≥15MΩ.CM）(傳統(tǒng)去離子水設(shè)備工藝)
RO、 EDI、樹(shù)脂離子交換是當(dāng)今制備純水的必選工藝設(shè)備：其中RO反滲透是當(dāng)今一項(xiàng)實(shí)用的膜分離技術(shù)，是依靠反滲透膜在壓力下使溶液中的溶劑與溶質(zhì)進(jìn)行分離的過(guò)程?？捎行У厝コ械闹亟饘匐x子、鹽類等，去除率達(dá)到98%以上； EDI連續(xù)電除鹽設(shè)備ConRinuous ElecRro deionizaRion（電解式連續(xù)去離子）為模塊式設(shè)備，可根據(jù)需要任意組合，該系統(tǒng)不需要停機(jī)再生，無(wú)需酸堿，因此廢水排放問(wèn)題也得到解決，更符合環(huán)保要求。可將水的電阻值由0.05-0.1MΩ/cm提升至15-18MΩ/cm。EDI裝置現(xiàn)已應(yīng)用在半導(dǎo)體、電廠、電子、制藥、實(shí)驗(yàn)室等領(lǐng)域制備高純水。
泉瑞QRCJ系列去離子水設(shè)備應(yīng)用領(lǐng)域：
▲電子工業(yè)用水：集成電路、硅晶片、顯示管等電子元器件沖洗水
▲制藥行業(yè)用水：大輸液、針劑、片劑、生化制品、設(shè)備清洗等
▲化工行業(yè)工藝用水：化工循環(huán)水、化工產(chǎn)品制造等
▲ 表面處理用水：汽車配件電鍍、金屬件鍍膜、玻璃表面處理等