現(xiàn)代科技的迅速發(fā)展，也促進(jìn)了X熒光光譜儀的提升和進(jìn)步。臺(tái)式X熒光光譜儀運(yùn)用到的X射線熒光法，一直是元素分析的重要方法。它可以應(yīng)用在樣品涂鍍層厚度及成分分析，而且十分受生產(chǎn)廠家的喜愛。今天就跟著創(chuàng)想小編來(lái)了解一下吧。

臺(tái)式X熒光光譜儀可用于分析多種鍍層，包括但不限于：

貴金屬、珠寶首飾中的黃金、鉑金等鍍層。

鋼鐵、五金電鍍中的鍍鋅、鍍鉻、鍍鈦等鍍層。

電子電器中PCB印刷電路板、金手指及連接器上的Au/Ni/Cu、Au/Pd/Ni/Cu等鍍層。

新能源/鋰電中電池薄膜吸收層的成分分析，如CIS、CIGS、CdTe等。

微電子、半導(dǎo)體中的貼片電子元器件、太陽(yáng)能電池、焊點(diǎn)、高精度感應(yīng)芯片、柔性線路板、磁性介質(zhì)的成分檢測(cè)。

防腐涂層中的涂層厚度及組分分析。

因此，臺(tái)式X熒光光譜儀可以分析多種金屬覆蓋層厚度，包括金(Au)、銀(Ag)、錫(Sn)、銅(Cu)、鎳(Ni)、鉻(Cr)等金屬元素厚度。

需要注意的是，在使用臺(tái)式X熒光光譜儀進(jìn)行分析時(shí)，應(yīng)遵循相應(yīng)的安全操作規(guī)程，以確保人員安全和儀器正常運(yùn)行。同時(shí)，應(yīng)根據(jù)具體的鍍層類型和測(cè)試需求選擇合適的測(cè)試方法和參數(shù)設(shè)置，以獲得準(zhǔn)確可靠的分析結(jié)果。

創(chuàng)想臺(tái)式X熒光光譜儀