等離子去膠機停止去膠操作非常的簡單，并且效率高，去膠后的外表潔凈光亮、沒有任何的劃痕、本錢低、環(huán)保。電介質等離子體去膠機在停止刻蝕時，普通會被應用在電容耦合等離子體平行板反響器上。


　　在平行板反響器中，反響離子刻蝕腔體所采用的是陰極面積小，陽極面積大的不對稱設計，而需求被刻蝕的物件則是被放置到面積較小的電極之上。在停止刻蝕操作時，其射頻電源所產生的熱運動會使質量小、運動速度快的帶負電自在電子很快抵達陰極。


　　而正離子則是由于質量大、速度慢而很難在同一時辰到達陰極，從而就會在陰極左近構成帶負電的鞘層，正離子在這個鞘層的加速之下，就會垂直的轟擊在硅片的外表，從而使得外表的化學反響加快，并且會使得反響生成物脫離，因而其刻蝕速度極快，離子的轟擊也會使各向異性刻蝕得以完成。


　　等離子去膠操作辦法：將待去膠片插入石英舟并平行氣流方向，推入真空室兩電極間，抽真空到1.3Pa,通入恰當氧氣，堅持真空室壓力在1.3-13Pa,加高頻功率，在電極間發(fā)作淡紫色輝光放電，經過調理功率、流量等技術參數(shù)，可得不一樣去膠速率，當膠膜去凈時，輝光不見。