污水處理 陰床出水HSi03含量偏高的原因是什么？如何處理？陰床出水中HSi03含量偏高，除了與進(jìn)水中Na+含量有關(guān)外，與再生狀況（再生用堿量，濃度，純度等）及樹脂狀有關(guān)系。  
(1)再生用堿量  陰床再生有兩個(gè)特點(diǎn)：一是由于HSi03不像其他離子，雖然對(duì)陰樹脂的親合力較低，但從陰樹脂排出時(shí)，會(huì)發(fā)生聚合。因此必須用NaOH使聚合物溶解，才能將
HSi03從樹脂層洗脫下來。而洗脫這種聚合HSi03的效果與再生用堿量，特別是保護(hù)層的用堿量有關(guān)。二是由于HSi03在整個(gè)樹脂層分布較廣，被置換下的速度又比較緩慢，所以需要較長的再生時(shí)間。
    因此，適當(dāng)?shù)脑偕鷦┯昧?，不僅能提高陰樹脂的交換容量，而且除硅效果也有顯著提高。試驗(yàn)證明：只有NaOH用量達(dá)到一定比耗時(shí)，才能達(dá)到比較的除硅效果。用堿量不足，則可能由于除硅不而使陰床出水中HSi03的含量偏高。
    (2)再生液濃度偏高‘’再生液濃度對(duì)陰床的除硅有兩個(gè)作用：一是由于強(qiáng)堿性陰離子交換樹脂的活動(dòng)性總的說來較弱，所以在電解質(zhì)濃度較高的溶液中，其雙電層易受壓縮，‘再生液中的OH一就很難將陰樹脂上吸附的HSi03置換得很。二是當(dāng)再生液濃度較高時(shí)，再生液體積則相對(duì)的小，與樹脂接觸時(shí)間也短，再生不易充分，這樣也會(huì)影響陰床對(duì)HSi03的去除，致使出水中HSi03含量偏高。
    當(dāng)采用較稀的再生濃度(0.2%~Oj 5%)或兩步再生時(shí)，曲于陰離子交換樹脂的雙電層有所擴(kuò)張，OH一就可以較充分地將HSi03置換下來，除硅效果也好。
    (3)再生劑純度低  NaOH純度對(duì)陰樹脂的再生過程影響較大。工業(yè)堿中的雜質(zhì)大部分為氯化物和鐵的氧化物。由于強(qiáng)堿陰樹脂對(duì)Cl一有較大的親合力，所以不宜用含有較多Cl一的堿來再生。因?yàn)镃l一不僅易于被樹脂吸附，而且不易被洗脫下來。當(dāng)使用含較多Cl一的堿再生時(shí)，會(huì)使樹脂的工作交換容量降低，出水HSi03含量偏高。鐵的氧化物則會(huì)因其在堿中水解而形成沉淀，而污染了陰樹脂。
  (4)再生液溫度  提高再生堿溫度，可以改善對(duì)HSi03的