當(dāng)前位置:中美貿(mào)易網(wǎng) > 技術(shù)中心 > 所有分類
頻率的選擇對(duì)超聲清洗效果的影響
超聲空化閾值和超聲波的頻率有密切關(guān)系.頻率越高,空化閾越高,換句話說,頻率越高,在液體中要產(chǎn)生空化所需要的聲強(qiáng)或聲功率也越大;頻率低,空化容易產(chǎn)生,同時(shí)在低頻情況下,液體受到的壓縮和稀疏作用有更長(zhǎng)的時(shí)間間隔.使氣泡在崩潰前能生長(zhǎng)到較大的尺寸,增高空化強(qiáng)度,有利于清洗作用.目前超聲波清洗機(jī)的工作頻率根據(jù)清洗對(duì)象,大致分為三個(gè)頻段;低頻超聲清洗(20一50KHz),高頻超聲清洗(50—200KHz)和兆赫超聲清洗(700KHz-1MHz以上).低頻超聲清洗適用于大部件表面或者污物和清洗件表面結(jié)合強(qiáng)度高的場(chǎng)合。頻率的低端,空化強(qiáng)度高。易腐蝕清洗件表面,不適宜清洗表面光潔度高的部件,而且空化噪聲大.40KHz左右的頻率,在相同聲強(qiáng)下,產(chǎn)生的空化泡數(shù)量比頻率為20KHz時(shí)多,穿透力較強(qiáng),宜清洗表面形狀復(fù)雜或有盲孔的工件,空化噪聲較小.但空化強(qiáng)度較低,適合清洗污物與被清洗件表面結(jié)合力較弱的場(chǎng)合,高頻超聲清洗適用于計(jì)算機(jī)。微電子元件的精細(xì)清洗,如磁盤、驅(qū)動(dòng)器,讀寫頭,液晶玻璃及平面顯示器,微組件和拋光金屬件等的清洗.這些清洗對(duì)象要求在清洗過程中不能受到空化腐蝕.要能洗掉微米級(jí)的污物。兆赫超聲清洗適用于集成電路芯片、硅片及簿膜等的清洗。能去除微米、亞微米級(jí)的污物而對(duì)清洗件沒有任何損傷。因?yàn)榇藭r(shí)不產(chǎn)生空化.其清洗機(jī)理主要是聲壓梯度.粒子速度和聲流的作用.特點(diǎn)是清洗方向性強(qiáng),被清洗件一般置于與聲束平行的方向.
超聲波清洗機(jī)換能器粘結(jié)結(jié)構(gòu)圖