HIPIMS（High Power Impulse Magnetron Sputtering，高功率脈沖磁控濺射）物理 氣相沉積（PVD）技術(shù)，它通過(guò)使用高峰值功率和低占空比的脈沖電源來(lái)實(shí)現(xiàn)材料的濺射。這種技術(shù)能夠產(chǎn)生高離子化率的等離子體，從而使得沉積過(guò)程中的粒子能量更高、薄膜與基底之間的結(jié)合力更強(qiáng)，并且能夠獲得更為均勻和平滑的涂層。

在金屬雙極板涂層的應(yīng)用中，HIPIMS技術(shù)顯示出了巨大的潛力。金屬雙極板是燃料電池的關(guān)鍵部件之一，它們的作用是在電池堆疊中分離相鄰的膜電極組件（MEA），同時(shí)提供氣體流動(dòng)通道并導(dǎo)電。為了提高雙極板的性能和耐久性，通常需要在其表面進(jìn)行涂層處理以增強(qiáng)其抗腐蝕性和降低接觸電阻。

HIPIMS技術(shù)在金屬雙極板涂層中的具體應(yīng)用包括以下幾個(gè)方面：

改善涂層質(zhì)量：HIPIMS技術(shù)可以制備出具有高致密度、低孔隙率的涂層，這有助于減少腐蝕介質(zhì)對(duì)基材的侵蝕。

增強(qiáng)結(jié)合強(qiáng)度：由于HIPIMS技術(shù)產(chǎn)生的粒子能量較高，因此形成的涂層與基材之間的結(jié)合力更強(qiáng)，這對(duì)于承受高壓和高溫環(huán)境的雙極板尤為重要。

控制涂層成分：利用HIPIMS技術(shù)，可以通過(guò)控制工藝參數(shù)來(lái)調(diào)整涂層的化學(xué)組成，以滿足特定的應(yīng)用需求。

提高涂層均勻性：該技術(shù)能夠在大面積上形成非常均勻的涂層，這對(duì)于確保整個(gè)雙極板表面具有一致性的性能至關(guān)重要。

減少涂層厚度：通過(guò)HIPIMS技術(shù)可以實(shí)現(xiàn)薄層沉積，這意味著可以在不增加額外重量的情況下提升雙極板的性能。

總之，HIPIMS技術(shù)為金屬雙極板提供了高質(zhì)量的涂層解決方案，有助于提高燃料電池的整體效率和可靠性。隨著這項(xiàng)技術(shù)的不斷發(fā)展和完善，預(yù)計(jì)在未來(lái)還將有更多創(chuàng)新性的應(yīng)用出現(xiàn)。