1.光源大小和空間相干性

2.光源的單色性和時(shí)間相干性

3.雜散光的影響

平行光在標(biāo)準(zhǔn)參考平板的上表面和被測(cè)件的下表面都會(huì)反射一部分光而形成非期望的雜散光。由于激光的相干性能非常好，這些雜散光疊加到干涉場(chǎng)上會(huì)產(chǎn)生寄生條紋和背景光，影響條紋的對(duì)比度。

*消除該雜散光的主要措施是:

將標(biāo)準(zhǔn)參考平板做成楔形板，以使標(biāo)準(zhǔn)平板上表面反射回來(lái)的光線不能進(jìn)入干涉場(chǎng);

同樣，將被測(cè)件做成楔形板或在它的背面涂抹油脂，也能消除或減小被測(cè)件下表面產(chǎn)生的雜散光影響;整個(gè)系統(tǒng)的所有光學(xué)面上均應(yīng)鍍?cè)鐾改ぁ?/p>

4.標(biāo)準(zhǔn)參考平板的影響

標(biāo)準(zhǔn)參考平板參考面在干涉儀中是作為測(cè)量基準(zhǔn)用的，主要要求是: 面形誤差小;口徑必須大于被測(cè)件。當(dāng)標(biāo)準(zhǔn)平板口徑大于200mm時(shí)，其加工和檢驗(yàn)都很困難。

為了保證參考平面面形精度：

（1）嚴(yán)格控制加工過(guò)程

（2）材料的線膨脹系數(shù)較小、殘余應(yīng)力很小

（3）安裝時(shí)使之不產(chǎn)生裝夾應(yīng)力;

（4）在高質(zhì)量平面 (如標(biāo)準(zhǔn)參考平面) 的面形測(cè)量中，可以考慮用液體的表面作為參考平面。