VPS-RF120 真空等離子清洗設(shè)備簡(jiǎn)介：

VPS-RF120真空等離子清洗設(shè)備主要由真空腔體、高頻等離子電源、真空產(chǎn)生及測(cè)量系統(tǒng)、工藝氣體系統(tǒng)、控制系統(tǒng)等部分組成。工作基本原理是利用真空泵將工作室進(jìn)行抽真空到一定的真空度后，通入工藝氣體，在高頻發(fā)生器作用下，在陽極和陰極之間形成高頻交變電場(chǎng)，將氣體進(jìn)行電離，形成等離子體。當(dāng)氣體到達(dá)等離子狀態(tài)時(shí)，氣態(tài)分子會(huì)裂變成許多高度活躍的粒子。等離子清洗的機(jī)理正是依靠處于“等離子態(tài)"的物質(zhì)的“活化作用"，達(dá)到去除物體表面污漬或改善表面活性的目的。

VPS-RF120 真空等離子清洗設(shè)備特點(diǎn)：歐美放電技術(shù)，專業(yè)型放電結(jié)構(gòu)，科學(xué)仿真等離子體分布均勻，處理效果均勻

產(chǎn)品應(yīng)用：去除表面有機(jī)物、表面油污清洗、提高表面親水性、改善表面粘接性、提高表面附著力、提高綁定性能

產(chǎn)品參數(shù)：