紫外臭氧清洗机 型号：DP-UV2
概述
紫外臭氧清洗机是一种干法清洗设备，可用于清洗多种单晶基片，以成好的成膜质量。同时也可去除光刻胶、改善材料表面润湿性、清洗SEM和TEM样品及紫外活化聚合物等。
紫外臭氧清洗提供了一种无酸、干燥对材料无损伤的原子级别的清洗手段，适合清除一些有机化合物。紫外灯主要发出两种波长的光：185nm和254nm，其中185nm的光可把空气中的氧气变为臭氧，254nm可以破坏化合物中的键（特别是碳碳键）；所以这两种波长的光组合可有效地清除有机化合物。
参数 指标
材质 内部采用不锈钢材料
结构 抽屉式样品台，取、放基板简单、方便
气路 预留进气接口，丰富设备的清洗种类
保护 抽屉开合与UV灯工作互锁，避免紫外线伤害
计时 按键定时器，数显倒计时，放便直观
操作 清洗工作进程可以任意时间手动终止
可选配件 可选臭氧中和器，避免臭氧伤害
电气 指标
清洗波段 185nm和254nm
距离UV灯3-5mm平均光强 28~32mW/cm²
灯管 双波低压汞灯X2
灯管功率 300W
灯管尺寸 300mm×300mm
照射区域 300mm×300mm（基台尺寸305×340mm）
可调照射距离 5~60mm
定时器工作范围 0~99min99s 具有自动倒计时功能
机械 指标
进、出气口 进气口：φ8mm，出气口：φ50mm
设备外型尺寸
长（ 430mm）×宽（ 380mm）×高（ 320mm）
（含臭氧中和器的尺寸为）长580mm×宽380mm×高420mm
重量 26KG
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